Met name in de oppervlaktefysica is er een toenemende behoefte aan nauwkeurige compatibele hoekmeetsystemen met stappen van een milligraad of kleiner in een ultrahoogvacuüm omgeving. Mogelijke toepassingen treft men thans vooral aan bij synchrotronstralingsfaciliteiten, zowel in het röntgendiffractie-onderzoek aan kristaloppervlakken als in de röntgenoptica, waar nauwkeurige hoekmeting van belang is voor het positioneren van röntgen-monochromatoren en spiegels. Een meetsysteem is ontwikkeld voor de uitlezing van de hoekstand van een goniometer in ultrahoogvacuüm (UHV). De hoekmeting geschiedt door het fotoelektrisch aftasten van een op de goniometer gemonteerde verdeelschijf.

Additional Metadata
Journal Mikroniek
Citation
de Haas, E, Barsingerhorn, W, Mastenbroek, R. S, Sturre, J, & van der Veen, J. F. (1996). Nauwkeurig hoekmeetsysteem voor gebruik van ultrahoog vacuüm. Mikroniek, 36, 161–164.